Esta área engloba a los servicios de Nanofabricación, Acoplo y Encapsulado e Instalaciones y Equipos así como la línea o área emergente de investigación y desarrollo tecnológico en Fotovoltaica.
Se trata de un área con un enfoque claramente tecnológico y aplicado.
Gracias a los equipos de fabricación en volumen de los que dispone y a su personal altamente cualificado, formado en su mayoría en la industria, esta área ofrece capacidades únicas en España en cuanto a prototipado y fabricación de dispositivos fotónicos en silicio incluyendo el encapsulado final.
Nanofabricación
El principal objetivo del grupo de Nanofabricación es dar servicios de micro/nanofabricación de estructuras en obleas de silico, en particular dispositivos fotónicos y fotovoltacios, a las demás áreas del centro y a clientes externos.
El Centro de Tecnología Nanofotónica posee extensa experiencia, contrastada a nivel europeo, en el diseño y modelado de estructuras fotónicas tales como cristales fotónicos, anillos resonantes e interferómetros que permiten desarrollar dispositivos ópticos pasivos tales como filtros, acopladores, multiplexores / demultiplexores, compensadores de dispersión, módulos de enlaces WDM, sensores biofotónicos, etc.
Todos estos dispositivos se basan en estructuras nanofotónicas (hilos fotónicos y cristales fotónicos) que debido a su escala nanométrica, permiten incrementar la interacción entre la luz y la materia. De este modo se consiguen componentes de altas prestaciones y reducidas dimensiones, lo que permite reducir sus costes y ampliar el ámbito de interés de la fotónica a más sectores industriales (fotónica aplicada a las telecomunicaciones, biomedicina, espacio, computación, electrónica de consumo) incentivando y contribuyendo al desarrollo industrial en alta tecnología en nuestro entorno.
Contamos con una amplia experiencia en el desarrollo de nuevos procesos de fabricación de dispositivos a medida.
Aunque el enfoque del centro y de esta área en particular es aplicado, la línea de nanofabricación en silicio que tenemos nos permite también crear estructuras nanométricas complejas de gran interés científico y tecnológico tales como los denominados metamateriales, que nos permiten estudiar fenómenos electromagnéticos muy novedosos (índice de refracción negativo, invisibilidad...) y de gran impacto académico.
Instalaciones y Equipos
El Centro de Tecnología Nanofotónica cuenta con una cadena completa de equipos de micro/nanofabricación en silicio con tecnología compatible CMOS que permiten el procesado de dispositivos y estructuras tanto fotónicas como electrónicas basadas en Silicio.
El grupo de Instalaciones y Equipos, formado por profesionales cualificados con varios años de experiencia, vela por el buen funcionamiento de estos complejos equipos y su objetivo es la optimización del "uptime" (tiempo de uso útil) de la cadena de fabricación y la minimización de los costes de operatividad, aspectos fundamentales cuando se trata de obtener el máximo rendimiento de unos equipos muy especializados y de un coste económico elevado.
Acoplo y Encapsulado
El Centro de Tecnología Nanofotónica está poniendo en marcha el área de Acoplo y Encapsulado.
El objetivo principal del área es el desarrollo de las tecnologías back-end y encapsulado que permitan reducir los costes de fabricación de dispositivos fotónicos, mems, moems, sensores o LED/OLED aplicables al campo de la investigación y de la industria.
El área también estará enfocada al diseño y la ingeniería de encapsulado, utilizando software de simulación térmica y mecánica.
La línea de equipos abarcará desde la fase de "cortar" el wafer, hasta la fase de sellado hermético de los encapsulados listos para su uso en las aplicaciones previstas.
Dicha línea tendrá todas las tecnologías necesarias:
Gonzalez Hernandez Ezequiel CRF
http://www.ntc.upv.es/nanofabricacion.html
Se trata de un área con un enfoque claramente tecnológico y aplicado.
Gracias a los equipos de fabricación en volumen de los que dispone y a su personal altamente cualificado, formado en su mayoría en la industria, esta área ofrece capacidades únicas en España en cuanto a prototipado y fabricación de dispositivos fotónicos en silicio incluyendo el encapsulado final.
Nanofabricación
El principal objetivo del grupo de Nanofabricación es dar servicios de micro/nanofabricación de estructuras en obleas de silico, en particular dispositivos fotónicos y fotovoltacios, a las demás áreas del centro y a clientes externos.
El Centro de Tecnología Nanofotónica posee extensa experiencia, contrastada a nivel europeo, en el diseño y modelado de estructuras fotónicas tales como cristales fotónicos, anillos resonantes e interferómetros que permiten desarrollar dispositivos ópticos pasivos tales como filtros, acopladores, multiplexores / demultiplexores, compensadores de dispersión, módulos de enlaces WDM, sensores biofotónicos, etc.
Todos estos dispositivos se basan en estructuras nanofotónicas (hilos fotónicos y cristales fotónicos) que debido a su escala nanométrica, permiten incrementar la interacción entre la luz y la materia. De este modo se consiguen componentes de altas prestaciones y reducidas dimensiones, lo que permite reducir sus costes y ampliar el ámbito de interés de la fotónica a más sectores industriales (fotónica aplicada a las telecomunicaciones, biomedicina, espacio, computación, electrónica de consumo) incentivando y contribuyendo al desarrollo industrial en alta tecnología en nuestro entorno.
Contamos con una amplia experiencia en el desarrollo de nuevos procesos de fabricación de dispositivos a medida.
Aunque el enfoque del centro y de esta área en particular es aplicado, la línea de nanofabricación en silicio que tenemos nos permite también crear estructuras nanométricas complejas de gran interés científico y tecnológico tales como los denominados metamateriales, que nos permiten estudiar fenómenos electromagnéticos muy novedosos (índice de refracción negativo, invisibilidad...) y de gran impacto académico.
Instalaciones y Equipos
El Centro de Tecnología Nanofotónica cuenta con una cadena completa de equipos de micro/nanofabricación en silicio con tecnología compatible CMOS que permiten el procesado de dispositivos y estructuras tanto fotónicas como electrónicas basadas en Silicio.
El grupo de Instalaciones y Equipos, formado por profesionales cualificados con varios años de experiencia, vela por el buen funcionamiento de estos complejos equipos y su objetivo es la optimización del "uptime" (tiempo de uso útil) de la cadena de fabricación y la minimización de los costes de operatividad, aspectos fundamentales cuando se trata de obtener el máximo rendimiento de unos equipos muy especializados y de un coste económico elevado.
Acoplo y Encapsulado
El Centro de Tecnología Nanofotónica está poniendo en marcha el área de Acoplo y Encapsulado.
El objetivo principal del área es el desarrollo de las tecnologías back-end y encapsulado que permitan reducir los costes de fabricación de dispositivos fotónicos, mems, moems, sensores o LED/OLED aplicables al campo de la investigación y de la industria.
El área también estará enfocada al diseño y la ingeniería de encapsulado, utilizando software de simulación térmica y mecánica.
La línea de equipos abarcará desde la fase de "cortar" el wafer, hasta la fase de sellado hermético de los encapsulados listos para su uso en las aplicaciones previstas.
Dicha línea tendrá todas las tecnologías necesarias:
- Línea para Cortar el Wafer
- Soldadura de hilo ("wire-bonding")
- Soldadura de componente ("die-attach")
- Soldadura tipo "flip-chip"
- Alineamiento activo y pasivo
- Integración híbrida
- Pulido
- Soldadura de fibra óptica ("splicing")
- Sellado hermético
Gonzalez Hernandez Ezequiel CRF
http://www.ntc.upv.es/nanofabricacion.html
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